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概述

調(diào)研大綱

1、行業(yè)定義

電子束曝光系統(tǒng)EBL，又稱電子束暴光系統(tǒng)，是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機(jī)十分相近，美國JC Nabity Lithography Systems公司是最早研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。

2、研究結(jié)論

針對電子束曝光系統(tǒng)市場來講，中國的電子束曝光系統(tǒng)目前處于研發(fā)階段，并無商業(yè)化生產(chǎn)產(chǎn)品，產(chǎn)品主要依附于國外進(jìn)口。

據(jù)研究報告顯示，全球電子束曝光系統(tǒng)市場主要集中在美國，歐洲和日本，產(chǎn)量最大的6個公司為Raith，Vistec，JEOL，Elionix，Crestec，NanoBeam，全球6家電子束曝光系統(tǒng)生產(chǎn)企業(yè)占全球市場的80%，整個市場呈現(xiàn)寡頭多聚。

3、全球電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場主要企業(yè)名單及介紹

圖：全球市場電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2019年產(chǎn)值市場份額列表

全球市場電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2019年產(chǎn)值市場份額列表

3.1 Raith

Raith作為領(lǐng)先的納米加工領(lǐng)域的精密儀器制造商，產(chǎn)品覆蓋了電子束曝光機(jī)，聚焦離子束系統(tǒng)，納米工程和逆向工程應(yīng)用設(shè)備等。2016年Raith市場產(chǎn)值為0.38億美元。

3.2 Vistec

Vistec Electron Beam GmbH是設(shè)計和制造電子束光刻系統(tǒng)的領(lǐng)導(dǎo)者。該公司為主要的半導(dǎo)體制造商和Advanced Research提供系統(tǒng)。 2016年Vistec市場產(chǎn)值為0.25億美元。

3.3 JEOL

JEOL有限公司有四個業(yè)務(wù)部門，Electron Optics制造掃描電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和掃描探針顯微鏡以及相關(guān)設(shè)備。“分析儀器”部分的產(chǎn)品包括質(zhì)譜儀，核磁共振和電子自旋共振設(shè)備。工業(yè)設(shè)備部門涵蓋了一系列專門針對半導(dǎo)體行業(yè)的設(shè)備，例如電子束源，晶圓工藝監(jiān)控器和等離子槍系列。最后，醫(yī)療設(shè)備部門制造自動分析設(shè)備，臨床診斷系統(tǒng)和氨基酸分析儀。2016年JEOL市場產(chǎn)值為0.18億美元。

3.4 Elionix

Elionix具有電子束，離子束，光學(xué)和X射線應(yīng)用技術(shù)的系統(tǒng)和設(shè)備的研究，開發(fā)，工程，制造，銷售和維護(hù)服務(wù)。2016年Elionix市場產(chǎn)值為0.14億美元。

3.5 Crestec

Crestec公司提供EB光刻的代工服務(wù)，其可以撰寫DFB-LD生產(chǎn)的精細(xì)光柵圖案，以及任何種類的研發(fā)圖案。有超過20年的電子束光刻經(jīng)驗(yàn)。2016年Crestec市場產(chǎn)值為0.04億美元。

3.6 NanoBeam

NanoBeam成立于2002年，致力于開發(fā)和制造先進(jìn)的電子束光刻系統(tǒng)。所有員工都具有電子束系統(tǒng)的長期經(jīng)驗(yàn)，并在該領(lǐng)域的多家公司工作過。2016年NanoBeam市場產(chǎn)值為0.03億美元。

4、電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品分類及市場調(diào)研

高斯電子束曝光系統(tǒng)：2016年市場產(chǎn)值為0.9億美元，市場份額為71.93%

成型電子束曝光系統(tǒng)：2016年市場產(chǎn)值為0.35億美元，市場份額為28.07%

5、電子束曝光系統(tǒng)（EBL）應(yīng)用領(lǐng)域市場分析

學(xué)術(shù)領(lǐng)域：2019年市場份額為62%

工業(yè)領(lǐng)域：2019年市場份額為33.43%